真空镀膜红膜制程技术

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真空镀膜红膜制程技术基板玻璃折射率是1.52加热温度是300摄氏度一般从99镀TI3O5到一个极值，然后镀SIO2到极值回3.5格，重复镀，共11层最后镀10格MGF2第一两层波长是：649最后10层监控波长：589镀膜起始真空度：4.0-3PA，一般充氧真空1.8－2PA

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